Sistema Integrado Repositor De Massa Capilar Kit Amend

Sistema Integrado Repositor De Massa Capilar Kit - Amend

Atuando de forma inteligente em todos os níveis da cutícula e do córtex, o kit RMC System, composto por Bioativo Positivo, repara os fios devolvendo a condição original dos cabelos e promove uma proteção completa contra danos futuros como coloração, permanentes, calor do secador, chapinhas e agressões externas (mar, sol, piscina e radiação UV). Cabelos mais fortes, recuperados e totalmente protegidos. Indicação: Para cabelos danificados e enfraquecidos. Princípios Ativos: Bioativo Positivo. Ação: Torna os cabelos mais resistentes, reduz a quebra e pontas duplas e repõe a massa capilar perdida. Kit composto por: - Shampoo Repositor de Massa 300ml; - Repositor de Massa 300g; - Balm Protetor 300ml. hampoo Repositor Amend RMC System: Aqua, Ammonium Laureth Sulfate, Ammonium Lauryl Sulfate, Cocamide DEA, PEG-150 Pentaerythrityl Tetrastearate, PEG-6 Caprylic/Capric Gycerides, Glycol Distearate, Parfum, Glycerin, Dimethicone, Citric Acid, Coco-Glucoside, Guar Hydroxypropyltrimonium Chloride, DMDM Hydantoin, Amodimethicone, Glyceryl Oleate, Glyceryl Stearate, Isocetyl Alcohol, Quaternium-70, C11-15 Pareth-7, Behenyl Alcohol, Benzophenone-3, Cetearyl Alcohol, Dimethylpabamidopropyl Laurdimonium Tosylate, Disodium Lauriminodipropionate Tocopheryl Phosphates, Hydroxyethyl Cetearamidopropyl Chloride, Laureth-23, Laureth-4, Propylene Glycol, Laureth-9, Trideceth-12, Benzoic Acid, Acetyl Cysteine, Arginine HCL, C12-14 SEC-Pareth-5, C12-14 Sec-Pareth-7, Glycine, Lauroyl Lysine, Salicylic Acid, Methylchloroisothiazolinone and Methylisothiazolinone. Repositor de Massa Capilar Amend RMC System: Aqua, Cetearyl Alcohol, Paraffinum Liquidum, Glycerin, Cyclopentasiloxane, Behentrimonium Methosulfate, Cetrimonium Chloride, Corylus Avellana Seed Oil, Parfum, Isocetyl Alcohol, Quaternium-70, Amodimethicone, Disodium EDTA, Behenyl Alcohol, Benzophenone-3, Dimethylpabamidopropyl Laurdimonium Tosylate, Disodium Lauriminodipropionate Tocopheryl Phosphates, Hydroxyethyl Cetearamidopropyldimonium Chloride, Propylene Glycol, BHT, C11-15 Pareth-7, Acetyl Cysteine, Arginine HCL, C12-14 Sec-Pareth-5, C12-14 Sec-Pareth-7, Glycine, Lauroyl Lysine, Laureth-9, Trideceth-12, Methylchloroisothiazolinone and Methylisothiazolinone. Balm Protetor Pós-Reposição Amend RMC System: Aqua, Cetyl Alcohol, Cetearyl Alcohol, Propylene Glycol, Amodimethicone, Phenyl Trimethicone, Behentrimonium Methosulfate, Parfum, Cyclopentasiloxane, Xylityl Sesquicaprylate, Glycerin, Disodium EDTA, C11-15 Pareth-7, Citric Acid, BHT, Isocetyl Alcohol, Quaternium-70, Laureth-9, Trideceth-12, Hydroxyethyl Cetearamidopropyldimonium Chloride, Behenyl Alcohol, Disodium Lauriminodipropionate Tocopheryl Phosphates, Dimethylpabamidopropyl Laurdimonium Tosylate, Benzophenone-3, Linalool, C12-14 Sec-Pareth-7, C12-14 Sec-Pareth-5, Lauroyl Lysine, Glycine, Acetyl Cysteine, Arginine HCL, Coumarin, D-Limonene. Modo de Usar: 1º - Lave os cabelos com o Shampoo Repositor, massageando suavemente os cabelos com as pontas dos dedos. Enxágue e repita a operação. Retire o excesso d'água com uma toalha; 2º - Aplique o Repositor de Massa Capilar de maneira uniforme, mecha por mecha. Deixe agir por 10 minutos. NÃO É NECESSÁRIO AQUECER COM TOUCAS OU SECADOR. Enxágue bem, retirando todo o produto do cabelo. Retire o excesso d'água com uma toalha; 3º - Finalize o processo aplicando o Balm Protetor Pós-Reposição nos cabelos úmidos mecha por mecha (comprimento do fio e pontas); 4º - Penteie como desejar. Não é necessário o enxágue. Precauções: Em caso de eventual irritação do couro cabeludo, suspender o uso. Não aplicar se o couro cabeludo estiver irritado ou lesionado. Mantenha fora do alcance de crianças, em lugar fresco e ao abrigo de luz intensa. Não ingerir. Em caso de contato com os olhos, enxaguar imediatamente com água abundante. USO EXTERNO.
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